Close

TECNOLOGIAS

REVESTIMENTOS FÍSICOS EM VAPOR

PACVD - PLASMA ASSISTED CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION

O PACVD (Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition) é um processo de formação de filmes finos sólidos através da deposição atómica ou molecular, ou a combinação de ambos, numa superfície aquecida. O revestimento resultante é oriundo de uma reação química, onde os percursores estão na fase de vapor. O processo de PACVD ocorre a temperaturas mais baixas do que o processo de CVD, porque é o plasma que é usado para desencadear uma reação térmica, e não a energia térmica. Neste processo todos os materiais que originam o filme estão na fase gasosa, ao contrário do que acontece no processo de CVD em que pelo menos um dos materiais está na fase sólida (normalmente um metal).

PACVD_Tecnologia

Vantagens

Aumento do tempo de vida útil de componentes e equipamentos

Aumento da produtividade global

Redução de tempos de paragem e/ou manutenção

Melhoria da qualidade do produto final

Redução de custos


Biocompatibilidade

PRODUTOS EM PORTFÓLIO

QUER AUMENTAR A SUA PRODUTIVIDADE?

Fale connosco e saiba como podemos agregar valor ao seu negócio!