Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une technologie de dépôt sous vide qui permet de déposer des couches minces d'un matériau vaporisé sur différents types de surfaces. 

Cette méthode fait appel à des processus purement physiques tels que l'évaporation par bombardement de plasma ionique, ce qui fait du dépôt un processus à l'échelle atomique.