O PVD (Physical Vapour Deposition) é uma tecnologia de deposição em vácuo, que permite depositar filmes finos de uma forma vaporizada de material sobre vários tipos de superfícies. 

Cette méthode fait appel à des processus purement physiques tels que l'évaporation par bombardement de plasma ionique, ce qui fait du dépôt un processus à l'échelle atomique.